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淺談美國硅谷對(duì)我國發(fā)展高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)的啟示
本文通過對(duì)美國"硅谷"成長優(yōu)勢(shì)的綜合分析,探討了美國"硅谷"區(qū)別于其他科技園區(qū)的本質(zhì)因素和美國"硅谷"對(duì)我國發(fā)展高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)幾點(diǎn)重要啟示,指出了我國發(fā)展高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)所需急待解決的問題.
作 者： 年福林 作者單位： 安徽省煤田地質(zhì)局第三勘探隊(duì),安徽·宿州,234000 刊 名： 宿州教育學(xué)院學(xué)報(bào) 英文刊名： JOURNAL OF SUZHOU EDUCATION INSTITUTE 年，卷(期)： 2001 ""(3) 分類號(hào)： F1 關(guān)鍵詞： 硅谷 高新技術(shù)產(chǎn)業(yè) 發(fā)展 啟示【淺談美國硅谷對(duì)我國發(fā)展高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)的啟示】相關(guān)文章：
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