鈦膜表面氧氣氧化層研究

鈦膜表面氧氣氧化層研究

研究了鉬基鈦膜表面氧氣氧化工藝;用XRD分析了氧氣氫化層的物相,其物相隨氧化條件而異,含有Ti、TiO2、TiO、Ti2O、Ti3O和Ti6O等多種物相;用XPS研究了氧氣氧化層鈦的主要價態(tài),其主要價態(tài)為+4、+3和+2價;用AES深度剖析研究了氧氣氧化層的厚度,并研究了溫度、氧氣壓力和時間對氧氣氧化層厚度影響的規(guī)律;所有氧氣氧化層均不與腐蝕介質(zhì)發(fā)生作用,證明了該氧化層致密連續(xù).

作 者： 劉文科 曹小華 彭述明 龍興貴 李宏發(fā) 楊茂年 張曉紅 顏登云 王維篤 楊本福   作者單位： 中國工程物理研究院核物理與化學(xué)研究所,綿陽,621900  刊 名： 材料導(dǎo)報  ISTIC PKU 英文刊名： MATERIALS REVIEW  年，卷(期)： 2004 18(5)  分類號：   關(guān)鍵詞： 鈦膜   表面   氧化層   連續(xù)  

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