電子通量對(duì)ZnO/K2SiO3熱控涂層光學(xué)性能的影響

電子通量對(duì)ZnO/K2SiO3熱控涂層光學(xué)性能的影響

研究了電子通量對(duì)ZnO/K2SiO3熱控涂層光學(xué)性能的影響.分別 采用通量為5×1011/cm2·s,8×1011/cm2·s,1×1012/cm2·s 和5×1012/cm2·s的電子對(duì)試樣進(jìn)行輻照.電子輻照下涂層的光學(xué)性能發(fā)生了退化 ,并且發(fā)現(xiàn)了退化涂層在空氣中的"漂白"現(xiàn)象.分析了ZnO/K2SiO3熱控涂層光學(xué)性能 的退化機(jī)制,同時(shí)討論了電子通量對(duì)太陽(yáng)光譜吸收系數(shù)的影響.實(shí)驗(yàn)結(jié)果發(fā)現(xiàn),在5×10 11～1×1012/cm2·s的電子通量范圍內(nèi),電子通量對(duì)ZnO/K2SiO3熱控涂層 光學(xué)性能的影響相同.因此在這個(gè)電子通量范圍內(nèi),采用加速地面試驗(yàn)來(lái)模擬空間的電子輻照效應(yīng)是有效的.

作 者： 王旭東 何世禹 楊德莊   作者單位： 哈爾濱工業(yè)大學(xué),空間材料與環(huán)境工程實(shí)驗(yàn)室,黑龍江,哈爾濱,150001  刊 名： 強(qiáng)激光與粒子束  ISTIC EI PKU 英文刊名： HIGH POWER LASER AND PARTICLE BEAMS  年，卷(期)： 2002 14(3)  分類號(hào)： O483 O433.4  關(guān)鍵詞： 電子輻照   熱控涂層   光學(xué)性能   空間環(huán)境  

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