低能束作用下襯底上超薄膜背散射電子發(fā)射

低能束作用下襯底上超薄膜背散射電子發(fā)射

應(yīng)用Monte Carlo方法模擬千電子伏低能束作用下,不同襯底上不同薄膜背散射電子發(fā)射. 應(yīng)用Mott散射截面和Joy方法修正的Bethe方程描述和計算低能電子在固體中彈性和非彈性散射,引入邊界方程,修正穿越薄膜與襯底界面的電子散射路徑. 計算分析了薄膜背散射系數(shù)η隨薄膜厚度D 的變化和規(guī)律,以及不同情況下η-D 線性區(qū)范圍的分布及其定量結(jié)果 D max. 計算了背散射電子角分布和空間密度分布.

作 者： 譚震宇 夏曰源   作者單位： 譚震宇(山東大學(xué)電氣工程學(xué)院,濟(jì)南,250061)

夏曰源(山東大學(xué)物理與微電子學(xué)院,濟(jì)南,250100) 

刊 名： 物理學(xué)報  ISTIC SCI PKU 英文刊名： ACTA PHYSICA SINICA  年，卷(期)： 2002 51(7)  分類號： O4  關(guān)鍵詞： 背散射電子   Monte Carlo方法,超薄膜  

【低能束作用下襯底上超薄膜背散射電子發(fā)射】相關(guān)文章：

硅襯底上Zn1-xMgxO薄膜的結(jié)構(gòu)與光學(xué)性質(zhì)04-26

分子束外延生長液晶光閥用ZnSxSe1-x薄膜的研究04-27

V2O5復(fù)合薄膜材料的電子結(jié)構(gòu)研究04-27

電子束煙氣脫硫技術(shù)及工業(yè)應(yīng)用04-27

上超市作文07-12

多約束下助推滑翔彈道發(fā)射角優(yōu)化研究04-26

利用強(qiáng)流脈沖離子束技術(shù)在室溫下沉積類金剛石薄膜研究04-26

電子束氨法煙氣脫硫技術(shù)工藝研究04-27

電子束焊接技術(shù)在大飛機(jī)中的應(yīng)用分析04-26

TC4合金的電子束冷床熔煉研究04-27