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8.0 nm反射式偏振膜的設(shè)計(jì)和制備
討論了軟X射線反射式偏振膜的設(shè)計(jì)原理和方法,利用設(shè)計(jì)軟件模擬設(shè)計(jì)了8.0 nm處的Mo/B4C偏振膜.對(duì)影響多層膜性能的參量進(jìn)行了詳細(xì)的誤差分析.利用磁控濺射鍍膜機(jī)進(jìn)行了偏振膜的制備研究,X射線小角衍射測(cè)量了多層膜的周期厚度,測(cè)量數(shù)據(jù)的擬合結(jié)果與設(shè)計(jì)值吻合很好.
作 者： 呂超 易葵 邵建達(dá) L(U) Chao YI Kui SHAO Jian-da 作者單位： 中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所薄膜中心,上海,201800 刊 名： 光子學(xué)報(bào) ISTIC PKU 英文刊名： ACTA PHOTONICA SINICA 年，卷(期)： 2007 36(11) 分類號(hào)： O434.14 關(guān)鍵詞： 多層膜 軟X射線 偏振 準(zhǔn)布儒斯特角【8.0 nm反射式偏振膜的設(shè)計(jì)和制備】相關(guān)文章：
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