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熱陰極輝光放電對(duì)金剛石膜沉積的影響
研究了在熱陰極輝光放電等離子體化學(xué)氣相沉積金剛石膜過(guò)程中,熱陰極輝光放電特性與金剛石膜沉積工藝的關(guān)系.結(jié)果表明,適當(dāng)?shù)年帢O溫度是保證大電流、高氣壓輝光放電的必要條件.陰極的溫度影響輝光放電陰極位降區(qū)的放電性質(zhì).金剛石膜的沉積速率隨著氣體壓力(16～20 kPa)的升高而上升,在18.6 kPa左右出現(xiàn)最高值,而陽(yáng)極位降區(qū)電場(chǎng)強(qiáng)度的降低使膜品質(zhì)下降.放電電流(8～12 A)對(duì)沉積速率的影響與氣體壓力的影響具有相似的規(guī)律.
作 者： 白亦真 金曾孫 姜志剛 韓雪梅 作者單位： 吉林大學(xué)超硬材料國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室 刊 名： 材料研究學(xué)報(bào) ISTIC EI PKU 英文刊名： CHINESE JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH 年，卷(期)： 2003 17(5) 分類(lèi)號(hào)： O613 TB383 關(guān)鍵詞： 無(wú)機(jī)非金屬材料 熱陰極 等離子體化學(xué)氣相沉積 輝光放電 金剛石膜【熱陰極輝光放電對(duì)金剛石膜沉積的影響】相關(guān)文章：
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