納米硅(nc-Si:H )/晶體硅(c-Si)異質(zhì)結(jié)太陽(yáng)電池的數(shù)值模擬分

時(shí)間:2023-04-27 21:40:27 數(shù)理化學(xué)論文 我要投稿
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納米硅(nc-Si:H )/晶體硅(c-Si)異質(zhì)結(jié)太陽(yáng)電池的數(shù)值模擬分析

運(yùn)用美國(guó)賓州大學(xué)發(fā)展的AMPS程序模擬分析了n-型納米硅(n+-nc-Si:H)/p-型晶體硅(p-c-Si)異質(zhì)結(jié)太陽(yáng)電池的光伏特性.分析表明,界面缺陷態(tài)是決定電池性能的關(guān)鍵因素,顯著影響電池的開路電壓(VOC)和填充因子(FF),而電池的光譜響應(yīng)或短路電流密度(JSC)對(duì)緩沖層的厚度較為敏感.對(duì)不同能帶補(bǔ)償(bandgap offset)的情況所進(jìn)行的模擬分析表明,隨著ΔEc的增大,由于界面態(tài)所帶來(lái)的開路電壓和填充因子的減小逐漸被消除,當(dāng)ΔEc達(dá)到0.5eV左右時(shí)界面態(tài)的影響幾乎完全被掩蓋.界面層的其他能帶結(jié)構(gòu)特征對(duì)器件性能的影響還有待進(jìn)一步研究.最后計(jì)算得到了這種電池理想情況下(無(wú)界面態(tài)、有背面場(chǎng)、正背面反射率分別為0和1)的理論極限效率ηmax=31.17% (AM1.5,100mW/cm2,0.40-1.10μm波段).

納米硅(nc-Si:H )/晶體硅(c-Si)異質(zhì)結(jié)太陽(yáng)電池的數(shù)值模擬分析

作 者: 胡志華 廖顯伯 曾湘波 徐艷月 張世斌 刁宏偉 孔光臨   作者單位: 胡志華(中國(guó)科學(xué)院半導(dǎo)體研究所,凝聚態(tài)物理中心,表面物理國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,北京,100083;云南師范大學(xué)太陽(yáng)能研究所,昆明,650092)

廖顯伯,曾湘波,徐艷月,張世斌,刁宏偉,孔光臨(中國(guó)科學(xué)院半導(dǎo)體研究所,凝聚態(tài)物理中心,表面物理國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,北京,100083) 

刊 名: 物理學(xué)報(bào)  ISTIC SCI PKU 英文刊名: ACTA PHYSICA SINICA  年,卷(期): 2003 52(1)  分類號(hào): O4  關(guān)鍵詞: nc-Si:H/c-Si異質(zhì)結(jié)   太陽(yáng)電池   計(jì)算機(jī)模擬  

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