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常壓和真空下CS2的光氧化反應
利用原位FTIR、XPS 和GC-MS等技術(shù)手段,研究了常溫紫外光輻照下常壓及真空狀態(tài)中,CS2的光氧化反應.結(jié)果表明,常壓及真空狀態(tài)下CS2光氧化反應的產(chǎn)物均為COS、SO2、CO 和 CO2,反應均遵循表觀一級反應動力學規(guī)律,但中間產(chǎn)物COS的濃度變化有較大的差異.常壓下COS濃度先迅速增大,然后減少; 真空條件下COS濃度增加到常壓下COS濃度的 1/10后基本持平,然后逐漸減小,整個變化趨勢緩慢; 2種條件下CS2的半衰期分別為31.6 s和39.8 s, 中間產(chǎn)物COS降解 98% 所需時間分別為 55 min和22 min.在相同的光照條件下,O2濃度的增加有助于CS2光氧化反應的進行.以CS2光氧化中間產(chǎn)物COS為初始物的光氧化反應主要產(chǎn)物為CO2和SO2,后者可以進一步被氧化為SO2-4.適量增加O2的濃度可以促進COS光氧化反應的進行,但O2的濃度增加至一定程度后反應速率基本保持恒定.以上結(jié)論對揭示CS2和COS的源和匯以及全球S物質(zhì)循環(huán)具有重要價值.
作 者： 王曉 吳洪波 陳建民 WANG Xiao WU Hong-bo CHEN Jian-min 作者單位： 復旦大學環(huán)境科學與工程系,上海,200433 刊 名： 環(huán)境科學 ISTIC PKU 英文刊名： ENVIRONMENTAL SCIENCE 年，卷(期)： 2005 26(2) 分類號： X131.1 關(guān)鍵詞： 二硫化碳 羰基硫 光氧化 FTIR【常壓和真空下CS2的光氧化反應】相關(guān)文章：
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