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SiO2/Si襯底上聚苯乙稀薄膜的退濕潤過程觀測
采用光學(xué)顯微鏡和原子力顯微鏡觀測了光滑SiO2襯底上聚苯乙稀薄膜的退濕潤過程. 觀測到成核退濕潤過程為:初態(tài)時(shí),在聚苯乙稀薄膜中出現(xiàn)隨機(jī)分布的小孔,并且小孔隨著時(shí)間的增加而逐漸變大,孔的尺寸的變化與時(shí)間成正比;終態(tài)時(shí)觀測到聚苯乙稀小球在SiO2襯底上的蜂窩狀分布,聚苯乙稀小球的分布與薄膜表面的缺陷密切相關(guān).
作 者： 劉海林 熊銳 李美亞 LIU Hai-lin XIONG Rui LI Mei-ya 作者單位： 武漢大學(xué),物理科學(xué)與技術(shù)學(xué)院,湖北,武漢,430072 刊 名： 物理實(shí)驗(yàn) PKU 英文刊名： PHYSICS EXPERIMENTATION 年，卷(期)： 2009 29(2) 分類號： O484 關(guān)鍵詞： 退濕潤過程 聚苯乙稀薄膜 SiO2/Si襯底【SiO2/Si襯底上聚苯乙稀薄膜的退濕潤過程觀測】相關(guān)文章：
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