橫加熱涂鎢平臺(tái)石墨爐原子吸收光譜法測定痕量銦的研究

橫加熱涂鎢平臺(tái)石墨爐原子吸收光譜法測定痕量銦的研究

在TAS-990原子吸收分光光度計(jì)上,對(duì)橫加熱涂鎢平臺(tái)石墨爐原子吸收法測定銦進(jìn)行了研究.試驗(yàn)表明,與不經(jīng)涂鎢的橫加熱平臺(tái)石墨爐相比,涂鎢橫加熱平臺(tái)石墨爐測量銦的靈敏度顯著提高.考察的4種化學(xué)改進(jìn)劑Ag,Ni,La和Ld中,選擇La和鎳比較合適.測定了人工合成鋁、銅、鈣和鋅等試樣中的痕量銦,同時(shí)與縱加熱涂鎢平臺(tái)石墨爐進(jìn)行了比較.橫加熱比縱加熱的灰化、原子化溫度低,時(shí)間短;反應(yīng)介質(zhì)對(duì)測量靈敏度的影響,大小順序完全一致,即HNO3＞H2SO4＞HCl.對(duì)共存元素Al,Zn,Ca,Mg,Na和Cu等的研究表明,橫加熱方式抗上述元素干擾的能力比縱加熱方式強(qiáng).

作 者： 洪欣 龔琦 韋小玲 覃維鵬 HONG Xin GONG Qi WEI Xiao-ling QIN Wei-peng   作者單位： 廣西大學(xué)化學(xué)化工學(xué)院,廣西南寧,530004  刊 名： 冶金分析  ISTIC PKU 英文刊名： METALLURGICAL ANALYSIS  年，卷(期)： 2007 27(11)  分類號(hào)： O657.31  關(guān)鍵詞： 橫向加熱   平臺(tái)石墨爐   鎢涂層   原子吸收   銦  

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